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专利类知识产权包括什么
专利类知识产权包括以下几种: 发明专利:是指通过公开的发明创造,获得国家知识产权局授予的专利权。发明专利的保护期限为20年,自申请日起计算。发明专利可以保护技术方案、产品、方法等创新成果。 实用新型专利:是指对产品的结构或形状、材料或组分进行改进,使其具有新颖性、创造性和实用性的技术方案。实用新型专利的保护期限为10年,自申请日起计算。实用新型专利可以保护产品的形状、结构或组合等创新成果。 外观设计专利:是指对产品的形状、图案或色彩等外观特征进行创新,使其具有新颖性、创造性和实用性的技术方案。外观设计专利的保护期限为10年,自申请日起计算。外观设计专利可以保护产品的外观设计创新成果。 商标权:是指注册商标专用权,即商标注册人对其注册商标享有独占使用的权利。商标权可以保护企业的品牌、商誉等无形资产。 著作权:是指作者对其创作的作品享有的人身权和财产权的总称。著作权可以保护文学、艺术、科学等领域的作品。 商业秘密:是指不为公众所知悉、能为权利人带来经济利益、具有实用性并经权利人采取保密措施的技术信息和经营信息。商业秘密可以保护企业的竞争优势和商业价值。 植物新品种权:是指对经过人工培育的植物新品种享有的专有权利。植物新品种权可以保护植物育种者的技术创新成果。
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专利类知识产权是指通过法定程序获得并受到保护的、具有独占性权利的发明创造。它包括以下几种类型: 发明专利:指对产品、方法或者其改进所提出的新的技术方案,经过国家专利局审查后授予专利权的法律文件。 实用新型专利:指对产品的形状、结构或者其组合所提出的新的技术方案,经过国家专利局审查后授予专利权的法律文件。 外观设计专利:指对产品的外观造型、色彩、图案等视觉特征所提出的新的设计,经过国家专利局审查后授予专利权的法律文件。 植物新品种权:指对植物新品种进行培育、改良、繁殖等行为所提出的新的品种,经过国家专利局审查后授予专利权的法律文件。 集成电路布图设计专有权:指对集成电路的布图设计进行保护,防止他人复制和利用的技术方案。 计算机软件著作权:指对计算机软件作品进行创作、开发、使用、传播等行为的权益保护。 商业秘密:指不为公众所知悉、能为权利人带来经济利益、具有实用性且被权利人采取保密措施的技术信息或经营信息。 商标权:指对商标标志进行注册、使用、转让等行为所享有的权益保护。 地理标志:指与特定地域有关的特色农产品、传统工艺品等,经国家相关部门认定并予以保护的特殊标志。 工业品外观设计:指对工业品的外形、颜色、图案等视觉特征进行创新设计,经过国家专利局审查后授予专利权的法律文件。
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专利类知识产权主要包括以下几种: 发明专利:发明专利是指通过公开的文献、技术资料或者实验结果,对新的技术方案或者产品进行描述和证明的发明。发明专利是一种保护期限较长的知识产权,通常为20年。 实用新型专利:实用新型专利是指对产品的结构或者形状进行改进,使其具有实用性和新颖性的一种专利。实用新型专利的保护期限一般为10年。 外观设计专利:外观设计专利是指对产品的外观设计进行创新,使其具有新颖性和美感的一种专利。外观设计专利的保护期限一般为15年。 软件著作权:软件著作权是指对计算机程序、数据库、文档等软件作品进行保护的一种知识产权。软件著作权的保护期限通常为作者去世后50年。 集成电路布图设计权:集成电路布图设计权是指对集成电路的布局、连接方式等设计进行保护的一种知识产权。集成电路布图设计权的保护期限通常为10年。 商业秘密:商业秘密是指不为公众所知悉,能为权利人带来经济利益,具有实用性并经权利人采取保密措施的技术信息和经营信息。商业秘密的保护期限通常为10年。

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